K-NG es un una fotoresina negativa para escala de grises que ha sido desarrollada por el departamento de materiales de KLOÉ.

Está especialmente pensada para litografía de microestructuras. Su umbral de exposición está cercano a cero y presenta un comportamiento lineal en función de la energía de exposición, lo que la convierte en ideal para la fabricación de patrones en escala de grises de centenas de nanómetros a 80 micras de grosor.

Esta fotoresina es sintetizada mediante proceso sol-gel usando precursores organo-minerales. La parte orgánica le confiere conformidad y fotosensibilidad, mientras que la parte inorgánica le proporciona una alta resistencia química y mecánica. 

Además, estas fotoresinas ofrecen una gran flexibilidad de uso. Las capas pueden ser depositadas por spin, dip o recubrimiento por spray y en un gran rango de sustratos: vidrio, semiconductores, metales, polímeros…Comparada con fotoresinas positivas, la resina K-NG puede ser fácilmente procesada gracias a su alta estabilidad incluso bajo variaciones en las condiciones externas (temperatura, humedad relativa…)